在近日的第七届进博会上，荷兰光刻机巨头ASML强调公司将在合规合法的前提下，继续为中国市场提供设备和技术上的支持。作为光刻机领域的领军者，ASML自1988年首次将光刻机引入中国，至今已有超过30年的历史。受制于国际形势的变化，ASML的战略重点已逐渐转向中国市场中的成熟制程技术。

　　本届进博会上，ASML特别展示了三款深紫外光刻机（DUV），包括大范围的应用的NXT:1470、NXT:870和XT:260。NXT:1470具有193nm的照明波长和≤57nm的分辨率，其套刻精度达到≤4.5nm，相较于中国工信部推广的国产氟化氩光刻机，其技术指标更为优越。这一展示不仅凸显了ASML在光刻技术上的领头羊，也反映出其对中国市场的持续重视。

　　根据2024年三季报，ASML来自中国大陆的收入占全球销售的47%，这一比例明显高于中国台湾及韩国的总和。公司表示，由于过去几年未能满足中国市场的全部需求，现阶段能更好地向中国客户交付设备，逐步提升交付量。但与此同时，ASML在中国大陆的业务也面临着地理政治学的挑战，特别是在极紫外光刻机（EUV）和其他高端产品的出口受限后，其市场策略必须继续调整。

　　ASML对观察者网表示，尽管面临出口管制的压力，但中国依旧是全球最大的半导体消费市场，预计对成熟制程芯片的需求将长期保持高位。该公司还强调它在中国市场的重要角色，愿意在合规的框架内继续为中国客户提供技术支持。

　　尽管ASML在光刻机市场占据非常大的优势，目前仍有竞争对手存在。日本企业尼康在此次进博会上也展出了其ArF液浸式扫描光刻机，表示该设备能支持7nm芯片的生产。然而，尼康在高端市场的竞争力和市场拓展能力仍显不足，分散的经营资源使其在技术创新上面临挑战。

　　随着半导体技术的迅速发展，特别是在AI技术应用方面，ASML和尼康分别在不同的领域展现出技术优势。ASML的最新产品能够提升生产效率，并在各种制造场景中表现优异。而随着AI绘画和AI写作技术的崛起，更多传统行业也正在寻求将这些创新技术整合到自身业务中，来提升生产率和效率，这无疑为上游设备制造商提供了更大的市场机会。

　　尽管市场之间的竞争愈发激烈，ASML在2024年预计净销售额为280亿欧元，表明其在高端光刻机市场的稳固地位。展望未来，ASML计划逐步恢复中国地区销售占比至20%左右，反映出其在全球市场的战略布局和运作成效。

　　总结来看，ASML通过在中国市场的持续努力和技术上的支持，彰显了其在全球半导体产业链中的重要性。在科技慢慢的提升的大背景下，ASML与中国市场之间的关系将如何演变，无疑值得行业内外进一步关注。返回搜狐，查看更加多